半导体电子工业气体常规检测五项及标准
时间：2023-09-05 16:24 点击次数：
电子气体是超大规模集成电路、液晶显示器件、半导体发光器件、太阳能电池等电子工业生产不可缺少的原材料，它们广泛应用于薄膜、刻蚀、掺杂、气相沉积、扩散等工艺。
对半导体行业来说，从单个芯片生成到*后器件的封装，几乎每一个环节都离不开电子气体，由此电子气被称为半导体制造的“粮食”和“血液”。
常用的电子气体纯气有60多种，混合气有80多种
化学气相沉积所用氨气、氦气，氧化亚氮，三氯氢硅，氟化氮，硅烷，六氟化钨等；
光刻所用氦气，氟气，氪气，氖气等；
干蚀刻所用氦气，四氟化碳，二氟甲烷，三氟甲烷，六氟乙烷，八氟丙烷，六氟化硫，氯化氢等，
离子注入所用氟化砷，三氟化磷，三氟化硼，四氟化硅等；
掺杂所用三氯化硼，乙硼烷，三氟化硼，磷化氢等。
我们支持检测压缩空气检测：颗粒，水分，露点，油份检测，有害气氧气，金属离子。含水量是电子气体纯度非常重要的一项指标，即使亿分之一浓度的水分都会影响半导体单晶生长质量。随着半导体工业的发展，对电子气体中的水含量要求越来越严格，再加上一些气体的反应性、腐蚀性等特性，这对水分含量的测定提出了很高的要求。
